國(guó)產(chǎn)MCU賦能低空經(jīng)濟(jì)發(fā)展
關(guān)于雅特力助力關(guān)節(jié)運(yùn)動(dòng)
維特比算法與DSP芯片——解碼噪聲中的“比較好路徑”
2025年關(guān)于麥歌恩動(dòng)態(tài)
雅特力推出新系列微控制器:AT32F455/F456/F45
雅特力科技助力宇樹(shù)科技推動(dòng)智慧機(jī)器人創(chuàng)新應(yīng)用
雅特力AT32 Workbench煥“芯”升級(jí)!
雅特力科技助力宇樹(shù)科技推動(dòng)智慧機(jī)器人創(chuàng)新應(yīng)用
矽??萍极@TüV萊茵 ISO 26262 認(rèn)證
國(guó)產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)加速發(fā)展,技術(shù)創(chuàng)新與市場(chǎng)機(jī)遇并存
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型的目的在于提供高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出密封性差,連接安裝步驟繁瑣的問(wèn)題。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,包括裝置主體、支撐腿、電源線和單片機(jī),所述裝置主體的底端固定連接有支撐腿,所述裝置主體的后面一側(cè)底部固定連接有電源線,所述裝置主體的一側(cè)中間部位固定連接有控制器,所述裝置主體的內(nèi)部底端一側(cè)固定連接有單片機(jī),所述裝置主體的頂部一端固定連接有去離子水儲(chǔ)罐,所述裝置主體的頂部一側(cè)固定連接有磷酸儲(chǔ)罐,所述磷酸儲(chǔ)罐的底部固定連接有攪拌倉(cāng),所述攪拌倉(cāng)的內(nèi)部頂部固定連接有攪拌電機(jī),所述攪拌倉(cāng)的另一側(cè)頂部固定連接有醋酸儲(chǔ)罐,所述裝置主體的頂部中間一側(cè)固定連接有硝酸儲(chǔ)罐,所述裝置主體的頂部中間另一側(cè)固定連接有陰離子表面活性劑儲(chǔ)罐,所述陰離子表面活性劑儲(chǔ)罐的另一側(cè)固定連接有聚氧乙烯型非離子表面活性劑儲(chǔ)罐,所述裝置主體的頂部另一側(cè)固定連接有氯化鉀儲(chǔ)罐,所述裝置主體的頂部另一端固定連接有硝酸鉀儲(chǔ)罐,所述裝置主體的內(nèi)部中間部位固定連接有連接構(gòu)件。哪家公司的蝕刻液是比較劃算的?南京格林達(dá)蝕刻液推薦貨源

鋁板面蝕刻用:酸、堿都行。(鋁板是兩性材料,既能與酸反應(yīng),又能與堿反應(yīng),所以腐蝕液有的用堿性材料腐蝕,有的用酸性材料腐蝕,一般情況下,以酸性材料腐蝕的為多,堿性材料可以洗白。下好料的鋁板用棗木碳研磨,去掉油膩、劃痕,磨出啞光表面。然后用絲網(wǎng)版印上紋樣,油墨型號(hào)為80-39、80-59、80-49等。這種耐腐蝕油墨細(xì)膩,印出的紋樣質(zhì)量高。印完紋樣后放進(jìn)電爐內(nèi)烘干,然后用即時(shí)貼封住后面,用膠帶封邊,進(jìn)入腐蝕工藝。鋁板的腐蝕液配方如下:三氯化鐵50%硫酸銅50%水適量,波美度15~20°之間,鋁板腐蝕時(shí)應(yīng)平放,在腐蝕的過(guò)程中紋樣上溢出赭紅色的滓渣,應(yīng)隨時(shí)用毛刷去掉,鋁面上冒出大量泡泡,滓渣隨泡泡浮起。鋁板的腐蝕時(shí)間大約在15~20min左右就可完成。一般情況下鋁板厚度不應(yīng)低于1mm,否則一不小心會(huì)腐蝕透,影響效果。鋁板的防護(hù)材料用香蕉水去掉。腐蝕后的鋁板拋光和銅板一樣,拋光時(shí)用香蕉水搓凈余蠟,用另一塊棉花擦磨出亮光,然后噴護(hù)光劑防護(hù),其它同銅一樣加工。)安徽銅蝕刻液蝕刻液按需定制「博洋化學(xué)」專業(yè)生產(chǎn)蝕刻液廠家,選用環(huán)保型的蝕刻液,產(chǎn)品用的放心!

負(fù)的值表示厚度減小。上述蝕刻液組合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征,上述氧化物膜推薦包含sio2,上述氮化物膜推薦包含sin。上述蝕刻液組合物用于3dnand閃存制造工序,能夠使上述氮化物膜去除工序中發(fā)生的副反應(yīng)氧化物的殘留和氧化物膜損傷不良問(wèn)題**少化。本發(fā)明的蝕刻液組合物包含如上選擇的添加劑,在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜時(shí),能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良(參照?qǐng)D2)以及氮化物膜雖被完全去除但也造成氧化物膜損傷(damage)的工序不良(參照?qǐng)D3)的發(fā)生**少化。因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良在添加劑的防蝕能力強(qiáng)于適宜水平時(shí)發(fā)生,氧化物膜不良在添加劑的防蝕能力弱于適宜水平時(shí)發(fā)生。以下,對(duì)于本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的磷酸、作為添加劑的硅烷(silane)系偶聯(lián)劑以及進(jìn)行更詳細(xì)的說(shuō)明。(a)磷酸本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的上述磷酸(phosphoricacid)作為主氧化劑可以在使氮化物膜氧化時(shí)使用。相對(duì)于組合物總重量,上述磷酸的含量為50~95重量%,推薦為80~90重量%。在上述磷酸的含量處于上述含量范圍內(nèi)的情況下。
使硝酸鉀儲(chǔ)罐21和其它儲(chǔ)罐的內(nèi)部形成一個(gè)密閉的空間,避免環(huán)境外部的雜質(zhì)進(jìn)入儲(chǔ)罐內(nèi),有效的提高了裝置使用的密封性;緊接著,將磷酸與醋酸在個(gè)攪拌倉(cāng)23中充分?jǐn)嚢杌旌暇鶆?,然后在第二個(gè)攪拌倉(cāng)23中與硝酸充分?jǐn)嚢杌旌暇鶆蚝?,再進(jìn)入配料罐中混合,將陰離子表面活性劑和聚氧乙烯型非離子表面活性劑在第三個(gè)攪拌倉(cāng)23混合后再進(jìn)入第四個(gè)攪拌倉(cāng)23中,與氯化鉀、硝酸鉀、去離子水一起在第四個(gè)攪拌倉(cāng)23中混合均勻,然后過(guò)濾后封裝,先檢查過(guò)濾板26進(jìn)行更換或安裝,過(guò)濾部件9的內(nèi)部?jī)蓚?cè)嵌入連接有過(guò)濾板26,常規(guī)的生產(chǎn)方法是將蝕刻液中的各組份在同一容器中一起混合,其分散混合性能差,蝕刻液雜質(zhì)含量多,過(guò)濾板26能將蝕刻液內(nèi)部的雜質(zhì)進(jìn)行過(guò)濾,使制備出的蝕刻液的雜質(zhì)被過(guò)濾板26過(guò)濾出,得到不含雜質(zhì)的蝕刻液,避免多種強(qiáng)酸直接共混有效的減小了蝕刻液制備的安全隱患;,通過(guò)過(guò)濾部件9將蝕刻液進(jìn)行過(guò)濾,過(guò)濾部件9設(shè)置有一個(gè),過(guò)濾部件9設(shè)置在連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè),過(guò)濾部件9與連接構(gòu)件11固定連接,過(guò)濾部件9能將制備出的蝕刻液進(jìn)行過(guò)濾,且過(guò)濾部件9能將內(nèi)部的過(guò)濾板26進(jìn)行拆卸更換,將過(guò)濾部件9的內(nèi)部進(jìn)行清洗,在將過(guò)濾部件9進(jìn)行連接安裝時(shí),將滑動(dòng)蓋24向外側(cè)滑動(dòng)。蝕刻液的價(jià)格哪家比較優(yōu)惠?

從蝕刻速度及安全性的觀點(diǎn)來(lái)看,推薦為40℃至70℃,更推薦為45℃至55℃。處理時(shí)間視對(duì)象物的表面狀態(tài)及形狀等而變化,通常為30秒至120秒左右。實(shí)施例然后,對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例與比較例一起進(jìn)行說(shuō)明。此外,本發(fā)明并非限定于下述實(shí)施例而解釋。制備表1及表2所示的組成的各蝕刻液,在下述條件下進(jìn)行蝕刻試驗(yàn)及蝕刻液的穩(wěn)定性試驗(yàn)。此外,表1及表2所示的組成的各蝕刻液中,剩余部分為離子交換水。另外,表1及表2所示的鹽酸的濃度為以氯化氫計(jì)的濃度。(蝕刻試驗(yàn))通過(guò)濺鍍法在樹(shù)脂上形成50nm的鈦膜,然后成膜200nm的銅膜,進(jìn)而通過(guò)電鍍銅在該銅膜上形成圖案,將所得的基板用作試樣。使用銅的蝕刻液,將試樣的濺鍍銅膜溶解而使鈦膜露出。然后,將試樣浸漬在實(shí)施例1至實(shí)施例12及比較例1至比較例3的蝕刻液中進(jìn)行蝕刻實(shí)驗(yàn)。將實(shí)驗(yàn)結(jié)果示于表1。[表1]像表1所示那樣,本發(fā)明的蝕刻液可在不蝕刻銅的情況下選擇性地蝕刻鈦。(蝕刻液的穩(wěn)定性試驗(yàn))將實(shí)施例1、實(shí)施例7、實(shí)施例12及比較例4的蝕刻液在室溫下放置2天后,進(jìn)行所述蝕刻試驗(yàn),比較放置前后的蝕刻速度。將比較結(jié)果示于表2。[表2]像表2所示那樣,本發(fā)明的蝕刻液的保存穩(wěn)定性優(yōu)異,即便在長(zhǎng)期保存的情況下也可穩(wěn)定地選擇性地蝕刻鈦。銅蝕刻液是用來(lái)蝕刻銅金屬的化學(xué)藥水;四川BOE蝕刻液蝕刻液什么價(jià)格
蘇州BOE蝕刻液公司哪家好?南京格林達(dá)蝕刻液推薦貨源
當(dāng)該風(fēng)刀裝置40的***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42為了減少該基板20上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時(shí),該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會(huì)往該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121流動(dòng),并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出,除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現(xiàn)象,亦可達(dá)到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問(wèn)題;此外,為了避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問(wèn)題,因此,該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,例如:孔徑a0小于3mm,即可因毛細(xì)現(xiàn)象的作用,亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與該第二擋板12的該上表面123所夾的接觸角θ4,而達(dá)到防止位于該第二擋板12的該上表面123的藥液51水滴經(jīng)由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121滴下至該基板20上。由上述的實(shí)施說(shuō)明可知,本實(shí)用新型的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備與現(xiàn)有技術(shù)相較之下,本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn)。本實(shí)用新型的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備主要借由具有復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔的擋液板結(jié)構(gòu)搭配風(fēng)刀裝置的硬體設(shè)計(jì),有效使風(fēng)刀裝置吹出的氣體得以經(jīng)由宣泄孔宣泄,并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由宣泄孔落下造成基板蝕刻不均等異?,F(xiàn)象。南京格林達(dá)蝕刻液推薦貨源