國產(chǎn)MCU賦能低空經(jīng)濟發(fā)展
關(guān)于雅特力助力關(guān)節(jié)運動
維特比算法與DSP芯片——解碼噪聲中的“比較好路徑”
2025年關(guān)于麥歌恩動態(tài)
雅特力推出新系列微控制器:AT32F455/F456/F45
雅特力科技助力宇樹科技推動智慧機器人創(chuàng)新應(yīng)用
雅特力AT32 Workbench煥“芯”升級!
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矽??萍极@TüV萊茵 ISO 26262 認(rèn)證
國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)加速發(fā)展,技術(shù)創(chuàng)新與市場機遇并存
將hno3、四甲基氫氧化銨、h2o2分別投入對應(yīng)的原料罐,備用;第三步:根據(jù)混酸配制表算出各個原料的添加量,按照純水→亞氨基二乙酸→氫氟酸→hno3→四甲基氫氧化銨→乙醇酸的順序依次將原料加入調(diào)配罐,將上述混料充分?jǐn)嚢?,攪拌時間為3~5h;第四步:在第三步的混料中再添加h2o2,繼續(xù)攪拌混勻,攪拌時間為3~5h,用磁力泵將混合液通過過濾器循環(huán)過濾。作為推薦的技術(shù)方案,所述磁力泵出口壓力≤,過濾器入口壓力≤。根據(jù)制備銅蝕刻液的原料確定磁力泵的出口壓力和過濾器的入口壓力,包裝原料可以被充分過濾。作為推薦的技術(shù)方案,所述調(diào)配罐內(nèi)的溫度設(shè)定在30~35℃。調(diào)配罐的溫度不能超過35℃,由于過氧化氫的密度隨溫度的升高而減小,因此保證交底的反應(yīng)溫度有助于保證原料體系的穩(wěn)定作為推薦的技術(shù)方案,所述過濾器的微濾膜孔徑為~μm。作為推薦的技術(shù)方案,第三步中各種原料在~,調(diào)配罐內(nèi)填充氮氣,攪拌速度為30~50r/min。作為推薦的技術(shù)方案,原料罐和調(diào)配罐大拼配量不超過罐容積的80%。本發(fā)明的優(yōu)點和有益效果在于:本發(fā)明在制備酸性銅蝕刻液的過程中,用低溫純水(10℃)替代常溫純水(25℃),將低溫純水加入反應(yīng)體系中,降低反應(yīng)體系的反應(yīng)溫度。維信諾用的哪家的蝕刻液?安慶江化微的蝕刻液蝕刻液生產(chǎn)

本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝。背景技術(shù):高精細芯片和顯示集成電路主要采用銅制程,其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過氧化氫系銅刻蝕液。過氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系,過硫酸銨體系)具有不引人其他金屬離子在銅層表面或線路體系中,產(chǎn)物親和、友好、環(huán)境污染少,刻蝕效率高且使用壽命較長的特點。大部分過氧化氫系銅刻蝕液包括參與氧化的過氧化氫組分、參與溶解的無機酸/有機酸組分,以及部分銅緩蝕劑等各類添加三個部分。由于銅蝕刻液中各物質(zhì)的反應(yīng)為放熱反應(yīng),體系中又含有過氧化氫在制備銅蝕刻液的生產(chǎn)過程中需要保證生產(chǎn)安全。技術(shù)實現(xiàn)要素:本發(fā)明的目的在于,克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷,提供一種銅蝕刻液大規(guī)模量產(chǎn)的生產(chǎn)工藝,該生產(chǎn)工藝溫控嚴(yán)格,生產(chǎn)過程中安全性高。為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案是設(shè)計一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝,所述工藝包括以下步驟:第一步:將純水進行低溫處理,使純水溫度≤10℃在純水罐中備用;第二步:配制和準(zhǔn)備原料,將亞氨基二乙酸、氫氟酸和乙醇酸分別投入對應(yīng)的原料罐中,經(jīng)過過濾器循環(huán)過濾,備用。安慶格林達蝕刻液銷售價格蘇州BOE蝕刻液的價格。

步驟一s1:設(shè)置一擋液板結(jié)構(gòu)10,其中該擋液板結(jié)構(gòu)10設(shè)置有復(fù)數(shù)個宣泄孔121;該擋液板結(jié)構(gòu)10包括有一***擋板11、一與該***擋板11接合的第二擋板12,以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13,其中該第二擋板12具有復(fù)數(shù)個貫穿該第二擋板12且錯位設(shè)置的宣泄孔121,該復(fù)數(shù)個宣泄孔121呈千鳥排列的直通孔態(tài)樣,且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離,其中該宣泄孔121的孔徑a0比較好小于3mm,以使該宣泄孔121的孔洞內(nèi)產(chǎn)生毛細現(xiàn)象,若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現(xiàn)時,則該水滴不至于經(jīng)由該宣泄孔121落至下表面122,但仍舊可以提供空氣宣泄的管道,以借由該宣泄孔121平衡該第二擋板12上、下二端部的壓力。步驟二s2:使用一設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10下方的輸送裝置30輸送一基板20,以經(jīng)過一噴灑裝置50進行一藥液51噴灑;在本實用新型其一較佳實施例中,該噴灑裝置50設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,且該基板20設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的下方約8毫米至15毫米之間,其中該噴灑裝置50用以噴灑一藥液51至該基板20上,以對該基板20進行一濕式蝕刻制程,該擋液板結(jié)構(gòu)10的設(shè)置即是為了避免該噴灑裝置50的藥液51繼續(xù)對已經(jīng)完成蝕刻步驟的基板20再進行蝕刻制程。
618光電行業(yè)ITO**蝕刻液,專門針對氧化銦錫(ITO)玻璃導(dǎo)電薄膜鍍層圖線的脫膜蝕刻,它對于高阻抗ITO玻璃導(dǎo)電膜(PET-ITO)以及低阻抗ITO玻璃導(dǎo)電膜(PET-ITO)都且有優(yōu)良的蝕刻速度與效果。具有速度快、側(cè)蝕小、無沉淀、氣味小、不攻擊抗蝕層,不攻擊基材,操作控制簡便靈活等非常***的優(yōu)點,可采取自動控制系統(tǒng)補加,也可人工補加方式。更重要的是絲毫不改變產(chǎn)品的導(dǎo)電阻抗電性數(shù)據(jù)。二、產(chǎn)品特點1)速度快市場之一般ITO蝕刻液速度大都在0.5nm/s,而KBX-618AITO蝕刻液蝕刻速度正??刂圃?-10nm/s,速度快(具體設(shè)備情況有所差異)2)氣味小、無煙霧、對皮膚刺激*目前市場蝕刻液一般有強烈之氣味,溫度升高后放出一種刺鼻氣味,對操作人員身體健康和工作環(huán)境極為不利,但KBX-618A酸性蝕刻液采用的是有機活性添加劑3、用于有機基材膜,及各類玻璃底材,不影響生產(chǎn)材料導(dǎo)電阻抗數(shù)據(jù)。不攻擊底材,不攻擊抗蝕膜。KBX-556ITO**褪膜液一、產(chǎn)品簡介KBX-556引進國外配方,采用進口原料,非常規(guī)易燃溶劑,即非有毒醇醚硫等物質(zhì),是采用環(huán)保的極性活性劑,可以有效、快速地去除水溶性干膜,在板面不會留下殘渣。在褪極細線寬線距板時效果尤其明顯,不會攻擊聚酰亞胺,PET,ITO,硅晶體,液晶屏,及弱金屬。「博洋化學(xué)」蝕刻液提銅 提供微電子領(lǐng)域個性化解決方案!

所述裝置主體的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥,所述連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)固定連接有過濾部件,所述裝置主體的內(nèi)部底端另一側(cè)固定連接有收集倉,所述收集倉的另一側(cè)底部固定連接有密封閥門,所述過濾部件的頂端兩側(cè)活動連接有滑動蓋,所述過濾部件的內(nèi)部中間兩側(cè)固定連接有收縮彈簧管,所述連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)兩端嵌入連接有螺紋管,所述連接構(gòu)件的內(nèi)部中間兩側(cè)活動連接有活動軸,所述連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)中間兩側(cè)嵌入連接有密封軟膠層。推薦的,所述硝酸鉀儲罐的頂部嵌入連接有密封環(huán)。推薦的,所述連接構(gòu)件的兩側(cè)嵌入連接有海綿層。推薦的,所述支撐腿的底端嵌入連接有防滑紋。推薦的,所述過濾部件的內(nèi)部兩側(cè)嵌入連接有過濾板。推薦的,所述過濾部件設(shè)置有一個,所述過濾部件設(shè)置在連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè),所述過濾部件與連接構(gòu)件固定連接。推薦的,所述連接構(gòu)件設(shè)置有十四個,所述連接構(gòu)件設(shè)置在攪拌倉的底部,所述連接構(gòu)件與攪拌倉固定連接。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型的有益效果是:1.高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,過濾部件,過濾部件設(shè)置在連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè),過濾部件與連接構(gòu)件固定連接,過濾部件能將制備出的蝕刻液進行過濾。如何挑選一款適合自己公司的蝕刻液?蝕刻液溶劑
龍騰光電用的哪家的蝕刻液?安慶江化微的蝕刻液蝕刻液生產(chǎn)
本發(fā)明涉及回收處理技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。背景技術(shù):廢銅蝕刻液含有可回收的金屬,所以需要進行回收處理,目前通用的做法是,使用化學(xué)方法回收廢液內(nèi)的銅,或提煉成硫酸銅產(chǎn)品,工藝落后,銅回收不徹底,處理的經(jīng)濟效益不明顯,有二次污染污染物排放,一旦處理不當(dāng)往外排放,勢必對水體生態(tài)系統(tǒng)造成大的沖擊。市場上的廢銅蝕刻液的回收處理裝置只能簡單的對蝕刻液進行回收處理,不能對蝕刻液進行循環(huán)電解,使得剩余蝕刻液中的銅離子轉(zhuǎn)化不充分,而且蝕刻液導(dǎo)入到電解池中會對電解池造成沖擊,進而影響電解池的使用壽命,并且在回收處理中會產(chǎn)生有害氣體而影響空氣環(huán)境,也不能在回收結(jié)束后對裝置內(nèi)部進行清理,為此,我們提出一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。技術(shù)實現(xiàn)要素:本發(fā)明的目的在于提供一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出的市場上的廢銅蝕刻液的回收處理裝置只能簡單的對蝕刻液進行回收處理,不能對蝕刻液進行循環(huán)電解,使得剩余蝕刻液中的銅離子轉(zhuǎn)化不充分,而且蝕刻液導(dǎo)入到電解池中會對電解池造成沖擊,進而影響電解池的使用壽命,并且在回收處理中會產(chǎn)生有害氣體而影響空氣環(huán)境。安慶江化微的蝕刻液蝕刻液生產(chǎn)