國(guó)產(chǎn)MCU賦能低空經(jīng)濟(jì)發(fā)展
關(guān)于雅特力助力關(guān)節(jié)運(yùn)動(dòng)
維特比算法與DSP芯片——解碼噪聲中的“比較好路徑”
2025年關(guān)于麥歌恩動(dòng)態(tài)
雅特力推出新系列微控制器:AT32F455/F456/F45
雅特力科技助力宇樹科技推動(dòng)智慧機(jī)器人創(chuàng)新應(yīng)用
雅特力AT32 Workbench煥“芯”升級(jí)!
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矽睿科技獲TüV萊茵 ISO 26262 認(rèn)證
國(guó)產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)加速發(fā)展,技術(shù)創(chuàng)新與市場(chǎng)機(jī)遇并存
裝置主體1的頂部另一端固定連接有硝酸鉀儲(chǔ)罐21,裝置主體1的內(nèi)部中間部位固定連接有連接構(gòu)件11,裝置主體1的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥10,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)固定連接有過(guò)濾部件9,裝置主體1的內(nèi)部底端另一側(cè)固定連接有收集倉(cāng)8,收集倉(cāng)8的另一側(cè)底部固定連接有密封閥門7,過(guò)濾部件9的頂端兩側(cè)活動(dòng)連接有滑動(dòng)蓋24,過(guò)濾部件9的內(nèi)部中間兩側(cè)固定連接有收縮彈簧管25,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)兩端嵌入連接有螺紋管27,連接構(gòu)件11的內(nèi)部中間兩側(cè)活動(dòng)連接有活動(dòng)軸28,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)中間兩側(cè)嵌入連接有密封軟膠層29。推薦的,硝酸鉀儲(chǔ)罐21的頂部嵌入連接有密封環(huán)22,在將制備蝕刻液儲(chǔ)罐加入制備材料的時(shí)候,需要將儲(chǔ)罐進(jìn)行密封,密封環(huán)22能將硝酸鉀儲(chǔ)罐21和其他儲(chǔ)罐的頂蓋與儲(chǔ)罐主體連接的位置進(jìn)行密封,使硝酸鉀儲(chǔ)罐21和其它儲(chǔ)罐的內(nèi)部形成一個(gè)密閉的空間,避免環(huán)境外部的雜質(zhì)進(jìn)入儲(chǔ)罐內(nèi),有效的提高了裝置使用的密封性。推薦的,連接構(gòu)件11的兩側(cè)嵌入連接有海綿層12,在使用裝置制備蝕刻液的時(shí)候,需要通過(guò)連接構(gòu)件11將裝置主體1內(nèi)部的部件進(jìn)行連接,在旋轉(zhuǎn)連接構(gòu)件11的兩側(cè)時(shí),操作人員的手會(huì)與連接構(gòu)件11接觸,海綿層12可以將操作人員手上的水分進(jìn)行吸收。江蘇省有哪些公司可以做蝕刻液。無(wú)錫江化微的蝕刻液蝕刻液推薦廠家

以帶動(dòng)該基板20由該噴灑裝置50下端部朝向該風(fēng)刀裝置40的該***風(fēng)刀41下端部的方向移動(dòng)。該風(fēng)刀裝置40設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,該風(fēng)刀裝置40包括有一設(shè)置于該基板20上方的***風(fēng)刀41,以及一設(shè)置于該基板20下方的第二風(fēng)刀42,其中該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42分別吹出一氣體43至該基板20,以將該基板20上的一藥液51帶往與相反于該基板20的行進(jìn)方向,以使該基板20上該藥液51減少,其中該氣體43遠(yuǎn)離該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42的方向分別與該基板20的法線方向夾設(shè)有一第三夾角θ3,且該第三夾角θ3介于20度至35度之間。此外,請(qǐng)一并參閱圖8與圖9所示,為本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖,以及宣泄孔的表面張力局部放大圖,其中該宣泄孔121為直通孔的態(tài)樣,當(dāng)該風(fēng)刀裝置40的***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42為了減少該基板(本圖式未標(biāo)示)上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時(shí),該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會(huì)往該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121流動(dòng),并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出(如圖8所示),除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現(xiàn)象,亦可達(dá)到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問題;此外。安慶蝕刻液供應(yīng)蝕刻液的配方是什么?

并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121落下造成該基板20的蝕刻不均等異常現(xiàn)象,確實(shí)達(dá)到保有原始擋液板的擋液效果,以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板而導(dǎo)致該基板20刮傷或破片風(fēng)險(xiǎn)等主要優(yōu)勢(shì)。該蝕刻設(shè)備1可進(jìn)一步設(shè)置有一噴灑裝置50,該噴灑裝置50設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,且該基板20設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的下方約8毫米至15毫米之間,其中該噴灑裝置50用以噴灑一藥液51至該基板20上,以對(duì)該基板20進(jìn)行一濕式蝕刻制程;由上述的說(shuō)明,擋液板結(jié)構(gòu)10的設(shè)置即是為了避免噴灑裝置50的藥液51繼續(xù)對(duì)已經(jīng)完成蝕刻步驟的基板20再進(jìn)行蝕刻制程,故仍舊會(huì)有少量的藥液51噴灑在擋液板結(jié)構(gòu)10上而留下該藥液51的水滴,而該藥液51的水滴亦不能落入該基板20上,以避免該基板20的蝕刻不均的現(xiàn)象產(chǎn)生。該輸送裝置30設(shè)置于該基板20的下方,該輸送裝置30包括有至少一滾輪31,其中該滾輪31與該基板20接觸以運(yùn)行該基板20;在本實(shí)用新型其一較佳實(shí)施例中,該輸送裝置30用以承載并運(yùn)送至少一該基板20于該濕式蝕刻機(jī)內(nèi)運(yùn)行,并接受濕式蝕刻的噴灑裝置50的制程運(yùn)作,故該輸送裝置30具有一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(圖式未標(biāo)示)以驅(qū)動(dòng)該滾輪31轉(zhuǎn)動(dòng),例如:順時(shí)針旋轉(zhuǎn)。
從蝕刻速度及安全性的觀點(diǎn)來(lái)看,推薦為40℃至70℃,更推薦為45℃至55℃。處理時(shí)間視對(duì)象物的表面狀態(tài)及形狀等而變化,通常為30秒至120秒左右。實(shí)施例然后,對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例與比較例一起進(jìn)行說(shuō)明。此外,本發(fā)明并非限定于下述實(shí)施例而解釋。制備表1及表2所示的組成的各蝕刻液,在下述條件下進(jìn)行蝕刻試驗(yàn)及蝕刻液的穩(wěn)定性試驗(yàn)。此外,表1及表2所示的組成的各蝕刻液中,剩余部分為離子交換水。另外,表1及表2所示的鹽酸的濃度為以氯化氫計(jì)的濃度。(蝕刻試驗(yàn))通過(guò)濺鍍法在樹脂上形成50nm的鈦膜,然后成膜200nm的銅膜,進(jìn)而通過(guò)電鍍銅在該銅膜上形成圖案,將所得的基板用作試樣。使用銅的蝕刻液,將試樣的濺鍍銅膜溶解而使鈦膜露出。然后,將試樣浸漬在實(shí)施例1至實(shí)施例12及比較例1至比較例3的蝕刻液中進(jìn)行蝕刻實(shí)驗(yàn)。將實(shí)驗(yàn)結(jié)果示于表1。[表1]像表1所示那樣,本發(fā)明的蝕刻液可在不蝕刻銅的情況下選擇性地蝕刻鈦。(蝕刻液的穩(wěn)定性試驗(yàn))將實(shí)施例1、實(shí)施例7、實(shí)施例12及比較例4的蝕刻液在室溫下放置2天后,進(jìn)行所述蝕刻試驗(yàn),比較放置前后的蝕刻速度。將比較結(jié)果示于表2。[表2]像表2所示那樣,本發(fā)明的蝕刻液的保存穩(wěn)定性優(yōu)異,即便在長(zhǎng)期保存的情況下也可穩(wěn)定地選擇性地蝕刻鈦。高效蝕刻液,讓您的生產(chǎn)更順暢,品質(zhì)更出眾。

所述液體入口1處設(shè)有減壓閥12,所述蒸汽出口5處設(shè)有真空泵13、除霧組件3及除沫組件4,所述除霧組件3用于過(guò)濾分離器中閃蒸的蒸汽中的含銅液體,所述除沫組件4用于將經(jīng)除霧組件3除霧的氣體進(jìn)行除沫。含銅蝕刻液在加熱器11中進(jìn)行加熱,達(dá)到閃蒸要求的溫度,輸送至分離器,通過(guò)減壓閥12減壓,真空泵13對(duì)分離器內(nèi)抽氣,使分離器內(nèi)處于低壓狀態(tài),含銅蝕刻液在分離器內(nèi)發(fā)生閃蒸,閃蒸產(chǎn)生大量蒸汽,蒸汽中攜帶著大小不等的液滴,大液滴中含有銅,通過(guò)除霧組件3和除沫組件4對(duì)蒸汽進(jìn)行分離過(guò)濾,也可以防止大液滴從蒸汽出口5飛出,減少產(chǎn)品損失。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述除霧組件3為設(shè)有多個(gè)平行且曲折的通道的折流板。液體在隨著氣體上升時(shí)會(huì)有慣性,因?yàn)橐后w與氣體的質(zhì)量不同,他們的慣性也不同,當(dāng)夾帶著液體的氣體以一定速度通過(guò)折流板曲折的通道時(shí),液體流動(dòng)的方向不斷在曲折的通道中發(fā)生變化,液體的慣性較大,依舊保持原來(lái)的運(yùn)動(dòng)方向,從氣體中脫離,撞擊折流板壁面從而被擋下,氣體則順利通過(guò)折流板通道排出,被擋下的液體在壁面上匯集成液流,因重力的作用從折流板上流下。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述除沫組件4為絲網(wǎng)。因?yàn)槌F組件3中的撞擊過(guò)程。蝕刻液可以從哪里購(gòu)買到;揚(yáng)州江化微的蝕刻液蝕刻液按需定制
銅蝕刻液是用來(lái)蝕刻銅金屬的化學(xué)藥水;無(wú)錫江化微的蝕刻液蝕刻液推薦廠家
圖7:本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)運(yùn)作局部放大圖。圖8:本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖。圖9:本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的宣泄孔的表面張力局部放大圖。圖10:本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其二較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖。圖11:本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其三較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖。圖12:本實(shí)用新型擋液板結(jié)構(gòu)其二較佳實(shí)施例的宣泄孔的表面張力局部放大圖。圖13:本實(shí)用新型蝕刻方法的步驟流程圖。圖號(hào)說(shuō)明:傳統(tǒng)擋液板結(jié)構(gòu)a擋液板結(jié)構(gòu)b風(fēng)刀c氣體本實(shí)用新型1蝕刻設(shè)備10擋液板結(jié)構(gòu)11***擋板12第二擋板121宣泄孔1211***壁面1212第二壁面122下表面123上表面13第三擋板20基板30輸送裝置31滾輪40風(fēng)刀裝置41***風(fēng)刀42第二風(fēng)刀43氣體50噴灑裝置51藥液s1步驟一s2步驟二s3步驟三s4步驟四h長(zhǎng)度θ夾角θ1***夾角θ2第二夾角θ3第三夾角θ4接觸角a0孔徑a1上孔徑a2下孔徑w、w1、w2距離。具體實(shí)施方式首先,請(qǐng)參閱圖2與圖3所示,為本實(shí)用新型擋液板結(jié)構(gòu)其一較佳實(shí)施例的整體結(jié)構(gòu)示意圖,以及宣泄孔排列示意圖,其中本實(shí)用新型的擋液板結(jié)構(gòu)10適用于一濕式蝕刻機(jī)(圖式未標(biāo)示)。無(wú)錫江化微的蝕刻液蝕刻液推薦廠家