裝置主體1的頂部另一端固定連接有硝酸鉀儲(chǔ)罐21,裝置主體1的內(nèi)部中間部位固定連接有連接構(gòu)件11,裝置主體1的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥10,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)固定連接有過(guò)濾部件9,裝置主體1的內(nèi)部底端另一側(cè)固定連接有收集倉(cāng)8,收集倉(cāng)8的另一側(cè)底部固定連接有密封閥門(mén)7,過(guò)濾部件9的頂端兩側(cè)活動(dòng)連接有滑動(dòng)蓋24,過(guò)濾部件9的內(nèi)部中間兩側(cè)固定連接有收縮彈簧管25,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)兩端嵌入連接有螺紋管27,連接構(gòu)件11的內(nèi)部中間兩側(cè)活動(dòng)連接有活動(dòng)軸28,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)中間兩側(cè)嵌入連接有密封軟膠層29。推薦的,硝酸鉀儲(chǔ)罐21的頂部嵌入連接有密封環(huán)22,在將制備蝕刻液儲(chǔ)罐加入制備材料的時(shí)候,需要將儲(chǔ)罐進(jìn)行密封,密封環(huán)22能將硝酸鉀儲(chǔ)罐21和其他儲(chǔ)罐的頂蓋與儲(chǔ)罐主體連接的位置進(jìn)行密封,使硝酸鉀儲(chǔ)罐21和其它儲(chǔ)罐的內(nèi)部形成一個(gè)密閉的空間,避免環(huán)境外部的雜質(zhì)進(jìn)入儲(chǔ)罐內(nèi),有效的提高了裝置使用的密封性。推薦的,連接構(gòu)件11的兩側(cè)嵌入連接有海綿層12,在使用裝置制備蝕刻液的時(shí)候,需要通過(guò)連接構(gòu)件11將裝置主體1內(nèi)部的部件進(jìn)行連接,在旋轉(zhuǎn)連接構(gòu)件11的兩側(cè)時(shí),操作人員的手會(huì)與連接構(gòu)件11接觸,海綿層12可以將操作人員手上的水分進(jìn)行吸收。剝離液是用于光刻膠剝離用的化學(xué)品。佛山天馬用的蝕刻液蝕刻液價(jià)格

負(fù)的值表示厚度減小。上述蝕刻液組合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征,上述氧化物膜推薦包含sio2,上述氮化物膜推薦包含sin。上述蝕刻液組合物用于3dnand閃存制造工序,能夠使上述氮化物膜去除工序中發(fā)生的副反應(yīng)氧化物的殘留和氧化物膜損傷不良問(wèn)題**少化。本發(fā)明的蝕刻液組合物包含如上選擇的添加劑,在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜時(shí),能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良(參照?qǐng)D2)以及氮化物膜雖被完全去除但也造成氧化物膜損傷(damage)的工序不良(參照?qǐng)D3)的發(fā)生**少化。因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良在添加劑的防蝕能力強(qiáng)于適宜水平時(shí)發(fā)生,氧化物膜不良在添加劑的防蝕能力弱于適宜水平時(shí)發(fā)生。以下,對(duì)于本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的磷酸、作為添加劑的硅烷(silane)系偶聯(lián)劑以及進(jìn)行更詳細(xì)的說(shuō)明。(a)磷酸本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的上述磷酸(phosphoricacid)作為主氧化劑可以在使氮化物膜氧化時(shí)使用。相對(duì)于組合物總重量,上述磷酸的含量為50~95重量%,推薦為80~90重量%。在上述磷酸的含量處于上述含量范圍內(nèi)的情況下。安徽銀蝕刻液蝕刻液廠家現(xiàn)貨如何挑選一款適合自己公司的蝕刻液?

故仍舊會(huì)有少量的藥液51噴灑在擋液板結(jié)構(gòu)10上而留下該藥液51的水滴,而該藥液51的水滴亦不能落入該基板20上,以避免基板20的蝕刻不均的現(xiàn)象產(chǎn)生;此外,該輸送裝置30用以承載并運(yùn)送至少一該基板20于該濕式蝕刻機(jī)內(nèi)運(yùn)行,并接受濕式蝕刻的噴灑裝置50的制程運(yùn)作,故該輸送裝置30具有一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以驅(qū)動(dòng)該滾輪31轉(zhuǎn)動(dòng),以帶動(dòng)該基板20由該噴灑裝置50下端部朝向該風(fēng)刀裝置40的該***風(fēng)刀41下端部的方向移動(dòng)。步驟三s3:使用一設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10下方的風(fēng)刀裝置40對(duì)該基板20吹出一氣體43,以使該基板20干燥;在本實(shí)用新型其一較佳實(shí)施例中,該風(fēng)刀裝置40設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,該風(fēng)刀裝置40包括有一設(shè)置于該基板20上方的***風(fēng)刀41,以及一設(shè)置于該基板20下方的第二風(fēng)刀42,其中該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42分別吹出一氣體43至該基板20,以將該基板20上的該藥液51帶往與相反于該基板20的行進(jìn)方向,以使該基板20降低該藥液51殘留,其中該氣體43遠(yuǎn)離該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42的方向分別與該基板20的法線方向夾設(shè)有一第三夾角θ3,且該第三夾角θ3介于20度至35度之間。步驟四s4:該氣體43經(jīng)由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121宣泄;在本實(shí)用新型其一較佳實(shí)施例中。
etchingamount)的相互關(guān)系的圖表。具體實(shí)施方式本發(fā)明人確認(rèn)了用于氮化物膜去除工序用蝕刻液組合物的具有防蝕能力的添加劑在滿足特定參數(shù)值時(shí)能夠使在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性去除氮化物膜且不損傷氧化物膜的效果極大化,從而完成了本發(fā)明。本發(fā)明包括選擇在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*將氮化物膜選擇性去除的能力優(yōu)異的添加劑的方法、由此選擇的添加劑、包含上述添加劑的蝕刻液組合物以及利用上述蝕刻液組合物的蝕刻方法。本發(fā)明中,蝕刻對(duì)象膜可以為氮化物膜,保護(hù)對(duì)象膜可以為氧化物膜。此外,本發(fā)明的上述添加劑可以為硅烷(silane)系偶聯(lián)劑。<蝕刻液組合物>具體而言,本發(fā)明可以包含磷酸、添加劑和水,上述添加劑可以為硅烷(silane)系偶聯(lián)劑。本發(fā)明的上述添加劑的特征在于,使上述添加劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量除以上述添加劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以(參照以下數(shù)學(xué)式)滿足。本發(fā)明中,各添加劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量和添加劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量的例子示于表3中。此外,由此計(jì)算的各添加劑的aeff值和與此有關(guān)的蝕刻程度的例示示于表2中。參照上述結(jié)果,可以確認(rèn)到上述添加劑的aeff值推薦滿足。優(yōu)先蘇州博洋化學(xué)股份有限公司。

將裝置主體1內(nèi)部的蝕刻液進(jìn)行清洗,具有很好的清理作用。工作原理:對(duì)于這類的回收處理裝置,首先將蝕刻液倒入進(jìn)液漏斗6并由過(guò)濾網(wǎng)7過(guò)濾到進(jìn)液管8中,之后蝕刻液流入到承載板3上的電解池4中時(shí),啟動(dòng)液壓缸11帶動(dòng)伸縮桿12向上移動(dòng),從而通過(guò)圓環(huán)塊13配合連接桿14和伸縮管9帶動(dòng)噴頭10向上移動(dòng),進(jìn)而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中,避免蝕刻液對(duì)電解池4造成沖擊而影響其使用壽命,具有保護(hù)電解池4的功能,之后金屬銅在隔膜5左側(cè)析出;其次在蝕刻液初次電解后,通過(guò)控制面板30啟動(dòng)增壓泵16并打開(kāi)一號(hào)電磁閥18,將蝕刻液通過(guò)回流管15抽入到一號(hào)排液管17中,并由進(jìn)液管8導(dǎo)入到伸縮管9中,直至蝕刻液由噴頭10重新噴到電解池4中,可以充分的將蝕刻液中的亞銅離子電解轉(zhuǎn)化為金屬銅,起到循環(huán)電解蝕刻液的作用,然后打開(kāi)二號(hào)電磁閥23,將蝕刻液通過(guò)二號(hào)排液管22導(dǎo)入到分隔板2左側(cè),傾斜板24使得蝕刻液向左流動(dòng)以便排出到裝置主體1外,接著啟動(dòng)抽氣泵19,將電解池4中產(chǎn)生的有害氣體抽入到排氣管20并導(dǎo)入到集氣箱21中,實(shí)現(xiàn)有害氣體的清理,緊接著打開(kāi)活動(dòng)板25將金屬銅取出,之后啟動(dòng)增壓泵16并打開(kāi)三號(hào)電磁閥29,將由進(jìn)水管27導(dǎo)入到蓄水箱26中的清水。哪家的蝕刻液比較好用點(diǎn)?哪家蝕刻液蝕刻液銷售電話
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在上述硅烷系偶聯(lián)劑的含量處于上述含量范圍內(nèi)的情況下,能夠調(diào)節(jié)添加劑本身凝膠化,且獲得合適的sio2防蝕和sin蝕刻性能。(c)水本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的上述水可以為用于半導(dǎo)體工序的去離子水,推薦使用18mω/㎝以上的上述去離子水。上述水的含量可以為使包含本發(fā)明的必須成分以及除此以外的其他成分的組合物總重量成為100重量%的余量。推薦可以按照本發(fā)明的組合物總重量的2~45重量%來(lái)包含。<選擇添加劑的方法、由此選擇的添加劑及利用其的蝕刻方法>此外,本發(fā)明提供選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*對(duì)上述氮化物膜選擇性蝕刻的蝕刻液組合物的添加劑的方法、由此選擇的添加劑以及利用該添加劑的蝕刻方法。上述蝕刻液組合物中說(shuō)明的、對(duì)于添加劑選擇等的一切內(nèi)容均可以同樣地應(yīng)用于本發(fā)明的選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的添加劑的方法、由此選擇的添加劑以及利用該添加劑的蝕刻方法。具體而言,提供選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法、由此選擇的硅烷系偶聯(lián)劑以及包含該硅烷系偶聯(lián)劑的蝕刻方法。佛山天馬用的蝕刻液蝕刻液價(jià)格