保護膜可布置為覆蓋TFT。保護膜可包括諸如硅氧化物、硅氮化物或硅氮氧化物的無機材料(例如，可由諸如硅氧化物、硅氮化物或硅氮氧化物的無機材料形成)。***絕緣膜207可布置在柔性襯底100之上。***絕緣膜207可為平坦化膜和/或保護膜。當有機發(fā)光器件布置在TFT上時，***絕緣膜207可基本上使TFT的上表面平坦并且可保護TFT和其它多種器件。***絕緣膜207可包括例如丙烯酸有機材料或者苯并環(huán)丁烯(BCB)(例如。可由丙烯酸有機材料或者苯并環(huán)丁烯(BCB)形成)。在本實施方式中，如圖5所示，緩沖層201、柵絕緣膜203、層間絕緣膜205和***絕緣膜207可形成在柔性襯底100的整個表面之上。第二絕緣膜208可布置在TFT之上。在本實施方式中，第二絕緣膜208可為像素限定膜。第二絕緣膜208可在***絕緣膜207上并且可具有開口。 地磚屏格柵屏全息屏的定制。湖北質(zhì)量led顯示屏

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    照此，減小或防止布線300的在***凹陷部300a3和第二凹陷部300b3中的每個處的電阻的過度增大。另外，在當前描述的實施方式中，***凹陷部300a3和第二凹陷部300b3中的每個的寬度b盡可能小，以減小布線300的電阻的增大。在一個實施方式中，***凹陷部300a3和第二凹陷部300b3中的每個的寬度b小于***凹陷部300a3和第二凹陷部300b3中的每個的凹陷深度a。另外。在當前描述的實施方式中，位于布線300的關(guān)于中心軸線B-B的***側(cè)300a上的***凹陷部300a3中的相鄰***凹陷部300a3之間的**小距離d可大于***凹陷部300a3中的每個的凹陷深度a。在另一實施方式中，位于布線300的關(guān)于中心軸線B-B的***側(cè)300a上的***凹陷部300a3中的相鄰***凹陷部300a3之間的**小距離d可大于***凹陷部300a3中的每個的凹陷深度a的四倍。在另一實施方式中，位于布線300的關(guān)于中心軸線B-B的***側(cè)300a上的***凹陷部300a3中的相鄰***凹陷部300a3之間的**小距離d可大于布線300的***寬度w的兩倍。第二凹陷部300b3可以以與上文針對***凹陷部300a3描述的方式相同或基本上相同的方式形成。

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